光催化釜式連續(xù)

產(chǎn)品型號：
更新時間：2025-07-16
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簡要描述：光催化釜式連續(xù)：巖征以自動化技術為核心優(yōu)勢，專注于多通道固定床反應器、高通量催化劑評價裝置、實驗室反應裝置、微型反應釜、實驗室高壓反應釜、成套連續(xù)反應裝置等領域，為化工、科研、環(huán)保、制藥、醫(yī)療多個行業(yè)客戶提供成套設備和一體化解決方案。

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產(chǎn)品詳情

品牌	巖征儀器	價格區(qū)間	面議
工作壓力	常壓	儀器材質(zhì)	不銹鋼,玻璃,其它,噴塑,防腐塑料,304不銹鋼,316不銹鋼
產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	應用領域	綜合

光催化釜式連續(xù)

光催化釜式連續(xù)反應器是一種融合光催化技術與連續(xù)流反應模式的新型設備，通過整合光源調(diào)控、流體動態(tài)傳輸與催化反應體系，實現(xiàn)反應物的高效、連續(xù)轉(zhuǎn)化，廣泛應用于綠色化學與環(huán)境治理領域。

其核心結構包括反應釜體（通常為耐腐蝕材質(zhì)如石英、鈦合金）、光源系統(tǒng)（紫外 / 可見 / 近紅外光源，可精準調(diào)控波長與功率）、連續(xù)進料 / 出料模塊（含計量泵與管路）、攪拌或流體擾動裝置（強化傳質(zhì)）及溫控系統(tǒng)。部分設備還集成催化劑固定床或懸浮催化體系回收單元，適配不同反應需求。

工作時，反應物經(jīng)進料泵持續(xù)注入釜體，在攪拌或湍流作用下與釜內(nèi)光催化劑（如 TiO?、g-C?N?等半導體材料）充分接觸，同時光源照射引發(fā)光生電子 - 空穴對，通過氧化還原反應轉(zhuǎn)化為目標產(chǎn)物，產(chǎn)物則通過溢流或泵出方式連續(xù)排出。相較于傳統(tǒng)間歇式光催化反應器，其通過穩(wěn)定反應環(huán)境（如恒定反應物濃度、光照強度）消除批次差異，時空產(chǎn)率可提升 2-4 倍。

在應用領域，該設備表現(xiàn)突出：有機合成中可高效實現(xiàn)烯烴環(huán)氧化、芳香族化合物羥基化等反應，如醫(yī)藥中間體苯甲醛的光催化氧化產(chǎn)率達 92%；環(huán)境治理中用于連續(xù)降解印染廢水、制藥廢水，對羅丹明 B 等污染物的降解率維持在 90% 以上，且處理量可達 5-50 L/h；新能源領域可驅(qū)動光催化水分解制氫，通過連續(xù)進料維持反應體系 pH 穩(wěn)定，產(chǎn)氫速率較間歇式提升 30%。

其顯著優(yōu)勢在于：光源與反應體系精準耦合（光能利用率達 60% 以上）、反應條件溫和（多為常溫常壓）、可通過模塊化設計實現(xiàn)規(guī)模化放大，且減少溶劑揮發(fā)與副產(chǎn)物堆積。作為連接實驗室基礎研究與工業(yè)化生產(chǎn)的關鍵設備，它為光催化技術的實際應用提供了高效轉(zhuǎn)化平臺，是可持續(xù)化學工藝的重要支撐。

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